为什么芯片难搞，因为没有这个！

光刻机：光刻机是制造芯片的关键设备。它利用超高压光源将芯片设计中的电路图案投射到光刻胶覆盖的硅片上。光刻机具有高精度、精确的图案转移能力，对于制造微小且复杂的电路非常重要。

化学气相沉积（CVD）设备：CVD设备用于在芯片制造过程中进行薄膜的沉积。它通过将气体化学物质引入反应室中，在硅片表面上沉积出非常薄的材料层，如硅氧化物这些薄膜层在芯片制造过程中用于隔离电路、提供绝缘或导电性能。

离子注入机（Ion Implanter）：离子注入机用于在芯片上注入离子，改变硅片中的导电特性。通过控制离子注入的能量和浓度，可以在芯片上创建不同的区域，形成晶体管等电子元件的结构。

形成激光精密机：激光精密机用于在芯片上去除不需要的材料，以电路的结构。它利用激光束来精确地去除薄膜层或刻蚀硅片表面，以实现芯片设计中所需的图形。51漫画

清洗设备：在芯片制造过程中，清洗设备用于提高制造过程中产生的损耗、消耗物和有害物质。清洗对于确保芯片质量和可靠性至关重要。